Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
(Autor) Guilei Wang
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Information
Editorial:
Springer Verlag, Singapore
Formato:
Paperback
Número de páginas:
None
Idioma:
en
ISBN:
9789811500480
Año de publicación:
2020
Fecha publicación:
2 de Octubre de 2020